silica colloidal polishing
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- 释义
二氧化硅乳胶抛光
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1、
为得到高质量、高平整度的铜表面，采用SiO2溶胶抛光液对铜进行抛光实验，在给定的条件下，得到了磨料粒子的浓度与抛光速率间的机械作用曲线。
来源：互联网摘选
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